[发明专利]光探测基板及其制备方法、显示装置有效

专利信息
申请号: 202110389948.0 申请日: 2021-04-12
公开(公告)号: CN113130698B 公开(公告)日: 2023-01-24
发明(设计)人: 李田生;蔡寿金;周琳;王迎姿;李成;车春城;孔德玺 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方传感技术有限公司
主分类号: H01L31/12 分类号: H01L31/12;H01L31/0232;H01L31/18;G02F1/1333
代理公司: 北京市铸成律师事务所 11313 代理人: 王云红;包莉莉
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 本公开实施例提供一种光探测基板及其制备方法、显示装置。光探测基板包括:衬底基板;感光元件,位于衬底基板的一侧,感光元件包括光电转换层;平坦层,位于感光元件背离衬底基板的一侧,平坦层开设有第一过孔,光电转换层的侧壁的至少一部分通过第一过孔暴露;遮光层,位于平坦层背离衬底基板的一侧,光电转换层在衬底基板上的正投影以及第一过孔在衬底基板上的正投影均位于遮光层在衬底基板上的正投影范围内,遮光层被配置为遮挡预设光线。本公开实施例的光探测基板,可以遮挡自顶部入射的预设光线,而且可以遮挡部分自侧部入射的预设光线,减少了预设光线对感光元件的影响,降低了预设光线导致的噪声,提高了信噪比。
搜索关键词: 探测 及其 制备 方法 显示装置
【主权项】:
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