[发明专利]光探测基板及其制备方法、显示装置有效
申请号: | 202110389948.0 | 申请日: | 2021-04-12 |
公开(公告)号: | CN113130698B | 公开(公告)日: | 2023-01-24 |
发明(设计)人: | 李田生;蔡寿金;周琳;王迎姿;李成;车春城;孔德玺 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方传感技术有限公司 |
主分类号: | H01L31/12 | 分类号: | H01L31/12;H01L31/0232;H01L31/18;G02F1/1333 |
代理公司: | 北京市铸成律师事务所 11313 | 代理人: | 王云红;包莉莉 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本公开实施例提供一种光探测基板及其制备方法、显示装置。光探测基板包括:衬底基板;感光元件,位于衬底基板的一侧,感光元件包括光电转换层;平坦层,位于感光元件背离衬底基板的一侧,平坦层开设有第一过孔,光电转换层的侧壁的至少一部分通过第一过孔暴露;遮光层,位于平坦层背离衬底基板的一侧,光电转换层在衬底基板上的正投影以及第一过孔在衬底基板上的正投影均位于遮光层在衬底基板上的正投影范围内,遮光层被配置为遮挡预设光线。本公开实施例的光探测基板,可以遮挡自顶部入射的预设光线,而且可以遮挡部分自侧部入射的预设光线,减少了预设光线对感光元件的影响,降低了预设光线导致的噪声,提高了信噪比。 | ||
搜索关键词: | 探测 及其 制备 方法 显示装置 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司;北京京东方传感技术有限公司,未经京东方科技集团股份有限公司;北京京东方传感技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202110389948.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的