[发明专利]结合嵌入电极与钝化层结构的InGaN/GaN多量子阱蓝光探测器及其制备方法与应用有效

专利信息
申请号: 202110390252.X 申请日: 2021-04-12
公开(公告)号: CN113224193B 公开(公告)日: 2022-06-14
发明(设计)人: 王文樑;李国强;苏柏煜;林正梁;孔德麒;麦文锦 申请(专利权)人: 华南理工大学
主分类号: H01L31/101 分类号: H01L31/101;H01L31/0352;H01L31/0216;H01L31/0224;H01L31/18
代理公司: 广州粤高专利商标代理有限公司 44102 代理人: 何淑珍;江裕强
地址: 510640 广*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明公开了一种结合嵌入电极与钝化层结构的InGaN/GaN多量子阱蓝光探测器及其制备方法与应用;所述探测器由下至上依次包括:Si衬底、AlN/AlGaN/GaN缓冲层、u‑GaN/AlN/u‑GaN/SiNx/u‑GaN缓冲层、n‑GaN缓冲层、InGaN/GaN超晶格层、InGaN/GaN多量子阱层;多量子阱层具有凹槽结构,多量子阱层的台面及凹槽有Si3N4钝化层,所述钝化层的凹槽内有第一金属层电极,其截面为半圆形,所述钝化层的台面有第二金属层电极。此制备方法工艺简单、省时高效。本发明将钝化层与嵌入电极结构结合使用可大幅提升器件性能,器件具有外量子效率高、响应度高、暗电流低等优点。
搜索关键词: 结合 嵌入 电极 钝化 结构 ingan gan 多量 子阱蓝光 探测器 及其 制备 方法 应用
【主权项】:
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