[发明专利]基于范德华力的压印脱模装置及脱模方法有效
| 申请号： | 202110391856.6 | 申请日： | 2021-04-13 |
| 公开（公告）号： | CN113085428B | 公开（公告）日： | 2023-03-24 |
| 发明（设计）人： | 郭俊;任明俊;张鑫泉;张哲 | 申请（专利权）人： | 霖鼎光学（上海）有限公司 |
| 主分类号： | B44B5/00 | 分类号： | B44B5/00;B44B5/02 |
| 代理公司： | 上海泰能知识产权代理事务所(普通合伙) 31233 | 代理人： | 钱文斌;宋缨 |
| 地址： | 201109 上海市*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种基于范德华力的压印脱模装置及脱模方法，装置包括真空腔箱体，所述真空腔箱体内设置有基平台，所述基平台用于放置待脱模的模板与薄膜，所述真空腔箱体内还包括升降平台和起模刀；所述升降平台在靠近所述基平台的一面设置有吸附单体，所述吸附单体能够与所述待脱模的薄膜产生范德华力；所述起模刀用于切入所述待脱模的模板与薄膜的粘合界面，且刀面与所述粘合界面始终保持共面。本发明能够实现对大尺寸晶圆的模板与薄膜之间的一次性保留完整微结构的脱模。 | ||
| 搜索关键词： | 基于 范德华力 压印 脱模 装置 方法 | ||
【主权项】：
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