[发明专利]一种射频芯片及制备方法在审

专利信息
申请号: 202110393176.8 申请日: 2021-04-13
公开(公告)号: CN113130478A 公开(公告)日: 2021-07-16
发明(设计)人: 蔡文必;朱庆芳 申请(专利权)人: 厦门市三安集成电路有限公司
主分类号: H01L27/02 分类号: H01L27/02;H01L21/822;H01L21/8222;H01L21/8232
代理公司: 北京超成律师事务所 11646 代理人: 王文宾
地址: 361100 福建省厦门*** 国省代码: 福建;35
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摘要: 发明提供一种射频芯片及制备方法,涉及半导体器件技术领域,包括在衬底上通过外延生长依次形成场效应晶体管外延层结构和双极晶体管外延层结构,刻蚀双极晶体管外延层结构以分别在电感器区域和场效应晶体管区域露出场效应晶体管外延层结构;在场效应晶体管区域形成场效应晶体管器件结构;在双极晶体管区域形成双极晶体管器件结构;对电感器区域的场效应晶体管外延层结构通过离子注入形成第一绝缘区;在第一绝缘区上形成电感器结构。便可以实现在同一衬底上依序制作出场效应晶体管器件结构、双极晶体管器件结构和电感器结构,可以有效的降低前端模块的占用体积,提高前端模块的集成度。
搜索关键词: 一种 射频 芯片 制备 方法
【主权项】:
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