[发明专利]一种大可逆磁致应变NiCoMnSn合金的制备方法有效
申请号: | 202110393878.6 | 申请日: | 2021-04-13 |
公开(公告)号: | CN113088850B | 公开(公告)日: | 2022-02-08 |
发明(设计)人: | 高智勇;孙思博;蔡伟 | 申请(专利权)人: | 哈尔滨工业大学 |
主分类号: | C22F3/00 | 分类号: | C22F3/00;C22C30/04;C22F1/00;C21D1/26;C21D1/30;C21D1/18 |
代理公司: | 北京高沃律师事务所 11569 | 代理人: | 赵琪 |
地址: | 150001 黑龙*** | 国省代码: | 黑龙江;23 |
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摘要: | 本发明提供了一种大可逆磁致应变NiCoMnSn合金的制备方法,属于变磁性形状记忆合金技术领域。本发明对NiCoMnSn合金进行电子辐照改性,得到所述大可逆磁致应变NiCoMnSn合金。本发明提供的制备方法对NiCoMnSn合金采用电子辐射改性,对NiCoMnSn合金的表面进行辐照,引起空位的产生;由于磁交换相互作用对Mn‑Mn距离的强烈依赖性,这种晶格收缩将导致Mn‑Mn距离的减少,使得相变前后两相(母相奥氏体和马氏体相)间的磁化强度差(△M)增加,同时3d轨道杂化的增强,导致磁场对母相和马氏体界面移动的驱动力增加,这一变化有利于在较低场下获得大的磁感生应变。 | ||
搜索关键词: | 一种 可逆 应变 nicomnsn 合金 制备 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
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