[发明专利]过渡金属二硫属化物原子层带和纳米带的水分调控生长方法在审
申请号: | 202110398305.2 | 申请日: | 2021-04-14 |
公开(公告)号: | CN113526555A | 公开(公告)日: | 2021-10-22 |
发明(设计)人: | A·R·哈鲁特云严;李煦凡 | 申请(专利权)人: | 本田技研工业株式会社 |
主分类号: | C01G39/06 | 分类号: | C01G39/06;C01G53/00;B82Y30/00;B82Y40/00 |
代理公司: | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人: | 刘迎春;邢锦晖 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 一种原子层纳米带的制作方法,包括:形成双原子层带,该双原子层带具有第一单层和位于所述第一单层的表面上的第二单层,其中,第一单层和第二单层分别包含过渡金属二硫属化物材料;氧化第一单层的至少一部分以提供氧化部分;以及去除氧化部分以提供过渡金属二硫属化物材料的原子层纳米带。还提供了根据上述方法制备的双原子层带、双原子层纳米带和单原子层纳米带。 | ||
搜索关键词: | 过渡 金属 二硫属化物 原子 纳米 水分 调控 生长 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
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