[发明专利]包含复合二氧化硅颗粒的化学机械抛光组合物、制造所述颗粒的方法以及抛光衬底的方法有效
| 申请号： | 202110398366.9 | 申请日： | 2021-04-06 |
| 公开（公告）号： | CN113528026B | 公开（公告）日： | 2022-11-15 |
| 发明（设计）人： | 郭毅 | 申请（专利权）人： | 罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02;C09K3/14;H01L21/306 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 乐洪咏;陈哲锋 |
| 地址： | 美国特*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种化学机械抛光组合物包含水，具有含有氮物质的二氧化硅芯、包含氧化铈、氢氧化铈或其混合物的铈化合物涂层和正ζ电位的胶体二氧化硅磨料颗粒，任选地氧化剂，任选地pH调节剂，任选地杀生物剂以及任选地表面活性剂。所述化学机械抛光组合物具有小于7的pH。还描述了一种对含有二氧化硅的衬底进行抛光的方法以及一种制造具有氧化铈、氢氧化铈或其混合物的涂层的复合胶体二氧化硅颗粒的方法。所述化学机械抛光组合物能够用于在酸性环境中提高二氧化硅从衬底的移除速率。 | ||
| 搜索关键词： | 包含 复合 二氧化硅 颗粒 化学 机械抛光 组合 制造 方法 以及 抛光 衬底 | ||
【主权项】：
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