[发明专利]一种具有紫外波段高吸收的超黑涂层的制备方法有效

专利信息
申请号: 202110401091.X 申请日: 2021-04-14
公开(公告)号: CN113245161B 公开(公告)日: 2022-03-25
发明(设计)人: 吴晓宏;熊启阳;卢松涛;李杨;秦伟;洪杨;康红军 申请(专利权)人: 哈尔滨工业大学
主分类号: B05D1/02 分类号: B05D1/02;B05D1/38;B05D7/24;C09D1/04;C09D7/61;C23C16/40;C23C16/455
代理公司: 哈尔滨市阳光惠远知识产权代理有限公司 23211 代理人: 张金珠
地址: 150001 黑*** 国省代码: 黑龙江;23
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摘要: 发明公开了一种具有紫外波段高吸收的超黑涂层的制备方法,属于空间光学系统杂散光抑制领域。本发明解决了现有的常规喷涂工艺制备超黑涂层普遍存在紫外波段吸收率较低的问题。本发明以炭黑作为黑色着色剂,通过调控多层喷涂工艺中炭黑着色剂质量分数构建具有浓度梯度过渡的可控结构膜层,并采用原子层沉积技术在超黑涂层表面沉积TiO2薄膜。本发明利用原子层沉积技术的高保形性特征在不影响超黑涂层表面杂散光抑制结构的基础上进一步提升超黑材料的紫外波段吸收率,扩展此种超黑涂层在空间光学领域的应用空间。
搜索关键词: 一种 具有 紫外 波段 吸收 涂层 制备 方法
【主权项】:
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