[发明专利]一种阵列基板及其制备方法、显示面板在审
| 申请号： | 202110402808.2 | 申请日： | 2021-04-14 |
| 公开（公告）号： | CN112987416A | 公开（公告）日： | 2021-06-18 |
| 发明（设计）人： | 陈俊明;王小元;吴忠山;杨国栋;万彬;刘艳;雷丹 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;重庆京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1343 | 分类号： | G02F1/1343;G02F1/1362 |
| 代理公司： | 北京润泽恒知识产权代理有限公司 11319 | 代理人： | 李娜 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种阵列基板及其制备方法、显示面板，涉及显示技术领域。阵列基板包括：阵列排布的子像素，子像素包括连接电极、绝缘层和像素电极，像素电极包括第一子电极、多个第二子电极和第三子电极，绝缘层具有第一过孔；第一子电极通过第一过孔与连接电极连接，相邻两个第二子电极之间具有狭缝；每个狭缝具有朝向第一子电极的第一端，第一狭缝的第一端与第一子电极沿第一方向延伸后的区域存在重合区域，第二狭缝的第一端与上述延伸区域不存在重合区域，至少一个第一狭缝的第一端到第一子电极远离第二子电极一侧所在平面的距离，小于第二狭缝的第一端到第一子电极远离第二子电极一侧所在平面的距离。本发明的阵列基板能够改善麻点不良现象。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 阵列 及其 制备 方法 显示 面板 | ||
【主权项】：
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