[发明专利]一种高透光的中子屏蔽复合材料及其制备方法在审
| 申请号： | 202110403604.0 | 申请日： | 2021-04-15 |
| 公开（公告）号： | CN113121977A | 公开（公告）日： | 2021-07-16 |
| 发明（设计）人： | 熊厚华;高洁;杜纪富;曾正魁;陈志远 | 申请（专利权）人： | 湖北科技学院 |
| 主分类号： | C08L69/00 | 分类号： | C08L69/00;C08K3/22;C08K9/06;C08K5/134 |
| 代理公司： | 咸宁鸿信专利代理事务所(普通合伙) 42249 | 代理人： | 刘喜 |
| 地址： | 437100 湖*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种高透光的中子屏蔽复合材料及其制备方法，属于核辐射屏蔽材料技术领域。1)将偶联剂溶于适量丙酮，加入纳米氧化钆后，超声处理30‑50分钟，得到表面改性的纳米氧化钆；2)将PC基料在120‑130℃条件下干燥至含水量低于0.02％；3)按照重量比将改性过的纳米氧化钆与干燥的PC及抗氧剂混合均匀；4)将混合料加入到双螺杆挤出机中，在240‑270℃下熔融挤出，螺杆机转速为200‑600rpm，经过熔融挤出，冷却造粒即得复合材料。本发明具有高透光性、且能够屏蔽中子等优点。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 透光 中子 屏蔽 复合材料 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
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