[发明专利]基于深度GRU的准分子激光器剂量控制方法及装置在审
| 申请号： | 202110403776.8 | 申请日： | 2021-04-15 |
| 公开（公告）号： | CN113783099A | 公开（公告）日： | 2021-12-10 |
| 发明（设计）人： | 冯泽斌;梁赛;刘广义;江锐;徐向宇;刘斌 | 申请（专利权）人： | 北京科益虹源光电技术有限公司 |
| 主分类号： | H01S3/13 | 分类号： | H01S3/13;H01S3/134 |
| 代理公司： | 北京汲智翼成知识产权代理事务所(普通合伙) 11381 | 代理人： | 陈曦;任佳 |
| 地址： | 100176 北京市大兴区经*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种基于深度GRU的准分子激光器剂量控制方法及装置。该方法选取在准分子激光器每发出一个爆发模式的激光脉冲能量序列后的时间间隔中，利用深度门控循环网络判断当前爆发模式与上一个爆发模式的激光脉冲能量损失函数的滑动平均值差的绝对值是否小于阈值；若大于则更新深度门控循环网络的训练参数，得出剂量控制参数的更新值，应用到下一个激光爆发模式的剂量精度控制中；若小于则将当前爆发模式剂量精度控制使用的剂量控制参数，应用到下一个激光爆发模式的剂量精度控制中。本发明针对不同的目标能量、重复频率具有很强的适应性，能够很好的控制准分子激光器的剂量精度，有效控制激光脉冲能量的剂量稳定性。 | ||
| 搜索关键词： | 基于 深度 gru 准分子激光 剂量 控制 方法 装置 | ||
【主权项】：
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