[发明专利]一种用于芯片互连的电镀钴镀液及配制方法在审

专利信息
申请号: 202110405374.1 申请日: 2021-04-15
公开(公告)号: CN113122887A 公开(公告)日: 2021-07-16
发明(设计)人: 王翀;周柘宁;洪延;周国云;王守绪;何为;陈苑明;陈德福;苏新虹;孙玉凯;金立奎 申请(专利权)人: 电子科技大学;珠海方正科技高密电子有限公司
主分类号: C25D3/12 分类号: C25D3/12;C25D7/12
代理公司: 成都点睛专利代理事务所(普通合伙) 51232 代理人: 霍淑利
地址: 611731 四川省成*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 发明涉及一种用于芯片互连的电镀钴镀液,属于电子制造技术领域。本发明的一种用于芯片互连的电镀钴镀液中各组分及电镀条件如下:主盐(以钴含量计)5‑20g/L、稳定剂1‑50g/L、缓冲剂10‑30g/L、晶粒细化剂1‑500mg/L、表面活性剂0.1‑1g/L、整平剂0.1‑1g/L、pH 3‑6、电流密度0.1‑3A/dm2、施镀温度50‑70℃。利用本发明公开的镀液所沉积的钴金属可以替代铜金属成为10nm以下芯片制程的互连材料,对微纳沟槽和微孔有良好的填充能力,有利于降低后段制程的寄生效应,提高芯片的可靠性。
搜索关键词: 一种 用于 芯片 互连 电镀 钴镀液 配制 方法
【主权项】:
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