[发明专利]一种预熔化的高折射率光学镀膜材料及其制备方法和应用有效

专利信息
申请号: 202110407120.3 申请日: 2021-04-15
公开(公告)号: CN113200566B 公开(公告)日: 2022-06-17
发明(设计)人: 张碧田;石志霞;彭程;孙静;段华英;张恒;王星明 申请(专利权)人: 有研资源环境技术研究院(北京)有限公司
主分类号: C01G23/00 分类号: C01G23/00;C23C14/08;C23C14/30
代理公司: 北京润泽恒知识产权代理有限公司 11319 代理人: 苟冬梅
地址: 101407 北京市怀*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明提供了一种预熔化的高折射率光学镀膜材料及其制备方法和应用,属于光学薄膜材料领域。该高折射率光学镀膜材料为钛酸镨,化学式为Pr5Ti5O17;并且,该钛酸镨是以TiO2、Pr6O11和Ti粉体为原料,通过固相合成反应制备得到的。采用本发明提供的制备方法所制备的该钛酸镨,在蒸发过程中保持稳定的化学组成,在预熔时可形成非常平整的蒸发表面,有利于镀膜过程的工艺控制。并且,采用本发明的钛酸镨镀制的光学膜层,在近紫外到近红外波段均有较高的透过率,同时,膜层致密、牢固,化学性质稳定,可作为优质的高折射率材料应用于光学膜系设计和批量的镀膜生产中。
搜索关键词: 一种 熔化 折射率 光学 镀膜 材料 及其 制备 方法 应用
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