[发明专利]一种巨量转移芯片的制作方法在审

专利信息
申请号: 202110412117.0 申请日: 2021-04-16
公开(公告)号: CN113517201A 公开(公告)日: 2021-10-19
发明(设计)人: 康孝恒;蔡克林;唐波;杨飞;李瑞;许凯;蒋乐元 申请(专利权)人: 惠州市志金电子科技有限公司
主分类号: H01L21/48 分类号: H01L21/48;H01L23/498;H01L21/78
代理公司: 广州市越秀区哲力专利商标事务所(普通合伙) 44288 代理人: 李健
地址: 516083 广东省惠*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明属于芯片技术领域,提供一种巨量转移芯片的制作方法,通过半蚀刻工艺将成品硅片蚀刻出包括多块单硅片的整片硅片,多块单硅片中相邻的单硅片之间设置有具备预设深度的连接槽,连接槽将多块单硅片连接为一个整体且因其预设深度而易于将连接为一个整体的多块单硅片划分为分开的单硅片。再通过制作具备多个焊盘的整片基板,在多个焊盘中填充焊料以对应固化多块单硅片,让整片硅片与整片基板连接固定构成产品级芯片,从而可有效避免后续工艺中大量多次将单个硅片分开转移到单个基板进行连接,提升整个封装测试的效率,降低封装测试的难度,实现巨量转移的技术效果。
搜索关键词: 一种 巨量 转移 芯片 制作方法
【主权项】:
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