[发明专利]抑制氧化铪薄膜折射率非均匀性的方法在审
| 申请号： | 202110412689.9 | 申请日： | 2021-04-16 |
| 公开（公告）号： | CN113186492A | 公开（公告）日： | 2021-07-30 |
| 发明（设计）人： | 孙建;朱美萍;赵泽成;易葵;张伟丽;王建国;王胭脂;李静平;赵娇玲;邵宇川;邵建达 | 申请（专利权）人： | 中国科学院上海光学精密机械研究所 |
| 主分类号： | C23C14/08 | 分类号： | C23C14/08;C23C14/10;C23C14/30;C23C14/54;G02B1/10 |
| 代理公司： | 上海恒慧知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31317 | 代理人： | 张宁展 |
| 地址： | 201800 *** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种抑制氧化铪薄膜折射率非均匀性的方法，在制备含有氧化铪膜层的多层光学薄膜时，镀制氧化铪的同时掺入氧化硅材料一同镀制形成氧化铪‑氧化硅混合膜层，抑制纯氧化铪膜层的折射率非均匀性，进而改善由于氧化铪膜层折射率非均匀性导致多层光学薄膜的光学性能下降问题。 | ||
| 搜索关键词： | 抑制 氧化 薄膜 折射率 均匀 方法 | ||
【主权项】：
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