[发明专利]一种晶硅电池镀膜工艺自动化控制方法

摘要

本发明涉及太阳能电池生产领域。一种晶硅电池镀膜工艺自动化控制方法，统计每次石墨舟中镀膜完成后硅片的数据参数作为下次石墨舟中镀膜时设置的依据，其中硅片的数据参数包括：本次镀膜前每张硅片的平均比表面积s、本次镀膜后石墨舟中心区域的每张硅片的平均镀膜厚度h1、本次镀膜后石墨舟边缘区域的每张硅片的平均镀膜厚度h2、本次镀膜时间t、本次镀膜时石墨舟不同区域温度c、本次射频电流i、本次气体流量q，本次比值系数a=2s/（h1+h2）。本发明的有益效果是：可最大化电池片镀膜工序成品率，且无需人工参与，大大提高生产效率和判定精准度。