[发明专利]一种烧结钕铁硼熔炼用坩埚的预处理方法及烧结钕铁硼的制备方法有效

专利信息
申请号: 202110419869.X 申请日: 2021-04-19
公开(公告)号: CN113213969B 公开(公告)日: 2022-06-28
发明(设计)人: 张雪峰;赵利忠;付松;李智;刘孝莲;石振;严密 申请(专利权)人: 杭州电子科技大学
主分类号: C04B41/87 分类号: C04B41/87;C22C33/04;C22C38/10;C22C38/16;H01F41/02;H01F1/057;F27B14/10
代理公司: 杭州杭诚专利事务所有限公司 33109 代理人: 尉伟敏;李博
地址: 310018 浙*** 国省代码: 浙江;33
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明涉及烧结钕铁硼熔炼技术领域,针对现有坩埚修补方法中容易引入Al等导致坩埚被刻蚀,出现凹坑或者裂纹的问题,公开一种烧结钕铁硼熔炼用坩埚的预处理方法及烧结钕铁硼的制备方法,包括清洗坩埚的表面结渣,并将坩埚表面吹扫干净;将填补料和矿粘合剂混合均匀制备涂覆料;将涂覆料在坩埚的内表面均匀的涂覆形成涂覆膜层;对坩埚和涂覆膜层加热,实现涂覆膜层干燥;所用的填补料为氧化锆、氧化铌、氧化钛粉末中的至少一种。本发明的坩埚的预处理方法可以有效的避免Al等引入,提高坩埚的使用寿命和清理坩埚的效率。同时采用本发明的方法烧纸的钕铁硼磁体的性能波动性下降,性能稳定性得到提升。
搜索关键词: 一种 烧结 钕铁硼 熔炼 坩埚 预处理 方法 制备
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于杭州电子科技大学,未经杭州电子科技大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202110419869.X/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top