[发明专利]显示装置及制造显示装置的方法在审

专利信息
申请号: 202110422391.6 申请日: 2021-04-20
公开(公告)号: CN113540176A 公开(公告)日: 2021-10-22
发明(设计)人: 朴晙晳;金明花;金兑相;文然建;朴根彻;林俊亨;崔惠临 申请(专利权)人: 三星显示有限公司
主分类号: H01L27/32 分类号: H01L27/32
代理公司: 北京金宏来专利代理事务所(特殊普通合伙) 11641 代理人: 李晓伟
地址: 韩国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 提供了显示装置和制造显示装置的方法。显示装置可包括第一栅电极、缓冲层、第一有源图案、源图案和漏图案、绝缘层、氧供给图案、第二有源图案、绝缘图案和第二栅电极,第一栅电极位于衬底上,缓冲层位于第一栅电极上,第一有源图案位于缓冲层上,与第一栅电极重叠并且包括氧化物半导体,源图案和漏图案分别位于第一有源图案的端部上,绝缘层与缓冲层上的源图案和漏图案重叠,氧供给图案位于绝缘层上,与第一有源图案重叠并且将氧供给到第一有源图案,第二有源图案位于绝缘层上并且与氧供给图案间隔开,第二有源图案包括沟道区以及源区和漏区,绝缘图案位于第二有源图案的沟道区上,第二栅电极位于绝缘图案上。
搜索关键词: 显示装置 制造 方法
【主权项】:
暂无信息
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