[发明专利]一种微透镜阵列与二维成像器件高精度耦合装置及方法在审

专利信息
申请号: 202110423798.0 申请日: 2021-04-20
公开(公告)号: CN113093343A 公开(公告)日: 2021-07-09
发明(设计)人: 梁志清;郭任豪;方磊;李冠廷;黄剑雄;贺瑛攀;郑兴;刘子骥 申请(专利权)人: 电子科技大学
主分类号: G02B6/32 分类号: G02B6/32;G02B6/42
代理公司: 成都行之专利代理事务所(普通合伙) 51220 代理人: 李朝虎
地址: 610000 四川省成*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 发明公开了一种微透镜阵列与二维成像器件高精度耦合装置及方法,包括平行光产生装置、高精度装配平台和信号处理模块;所述高精度装配平台和信号处理模块连接;所述平行光产生装置产生平行光束并将平行光束投射到高精度装配平台;高精度装配平台将平行光束转换为焦点图像并将焦点图像上传到信号处理模块;信号处理模块接收焦点图像并输出控制信号用以控制高精度装配平台完成高精度耦合。本发明通过改变微透镜阵列的位置和俯仰角,记录微透镜处于不同状态下二维成像器件的焦点图像,通过与标准焦点图像的对比找到最佳匹配状态完成耦合。
搜索关键词: 一种 透镜 阵列 二维 成像 器件 高精度 耦合 装置 方法
【主权项】:
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