[发明专利]微米级功能结构的振动铁磁流体超精密抛光装置及方法在审
| 申请号： | 202110428045.9 | 申请日： | 2021-04-21 |
| 公开（公告）号： | CN113172487A | 公开（公告）日： | 2021-07-27 |
| 发明（设计）人： | 肖峻峰;许剑锋;杜梦丹;汪学方;张建国;张雨雨;吴佳理;耿士雄 | 申请（专利权）人： | 华中科技大学 |
| 主分类号： | B24B1/04 | 分类号： | B24B1/04;B24B29/02 |
| 代理公司： | 湖北武汉永嘉专利代理有限公司 42102 | 代理人： | 许美红 |
| 地址： | 430074 湖北省武*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种微米级功能结构的振动铁磁流体超精密抛光方法，包括以下步骤：在待抛光工件的微结构中注入抛光液，抛光液包括铁磁流体、非磁性磨粒和水；通过磁场聚焦机构将外加磁场聚焦在工件的特定抛光部位，并控制外加磁场或工件的振动及运动轨迹，抛光液中铁磁流体在磁场的作用下限制非磁性磨粒自由移动，使非磁性磨粒始终垂直于微结构形貌振动打磨并沿微结构形貌走向运动打磨。本发明通过将磁场聚焦于待抛光微结构特定部位，用以控制磨粒在小范围特定区域抛光，根据加工工况，控制形成不同大小、形状的聚焦磁场，等同于“柔性抛光磨头”大小、形状可控。 | ||
| 搜索关键词： | 微米 功能 结构 振动 流体 精密 抛光 装置 方法 | ||
【主权项】：
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