[发明专利]一种薄膜沉积装置和薄膜沉积方法

摘要

本发明公开了一种薄膜沉积装置和薄膜沉积方法，其中一种薄膜沉积装置包括：反应腔室、承载座，所述承载座设置于反应腔室中，用于承载基板；所述反应腔室上部设有第一进气口，反应腔室下部设有第二气体进气口和泵抽气口，所述反应腔室内的两侧设有环形侧壁，所述反应腔室内还设有分隔板和第二气体出气环；本发明提供的一种薄膜沉积装置，可与薄膜沉积工艺同步进行，减少清洗时间提高产能，并改善腔体及薄膜颗粒度；本发明提供的薄膜沉积方法，通过腔体侧壁形成气环降低腔体侧壁的温度，通过惰性气体稀释腔体底部的反应源浓度，防止薄膜累积过多及清除不彻底而产生的颗粒，改善了腔体及薄膜颗粒度。