[发明专利]基于光纤选模耦合器的多通道并行式超分辨直写光刻系统在审
| 申请号： | 202110428488.8 | 申请日： | 2021-04-21 |
| 公开（公告）号： | CN113189847A | 公开（公告）日： | 2021-07-30 |
| 发明（设计）人： | 匡翠方;罗昊;李海峰;刘旭;魏震;汤孟博 | 申请（专利权）人： | 之江实验室;浙江大学 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 杭州求是专利事务所有限公司 33200 | 代理人： | 邱启旺 |
| 地址： | 310023 浙江省杭州市余*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种基于光纤选模耦合器的多通道并行式超分辨直写光刻系统，该系统的激光直写过程是通过激发光的双光子效应引发负性光刻胶的光聚合实现的，并且引入一束环形抑制光束来阻止激发光焦斑边缘区域内的光刻胶进行光聚合，使直写式光刻的最小特征尺寸突破光学衍射极限限制。所述的激发光束和其对应的环形抑制光束均由同一光纤选模耦合器产生，两光束从选模耦合器出射时具有天然的同轴传输特性。通过在系统中复用多个上述光纤选模耦合器，以及光纤开关阵列和其它光学和机械元件的协调控制，有望实现超万束的大规模并行式直写，极大地提升直写式光刻系统的运行效率。 | ||
| 搜索关键词： | 基于 光纤 耦合器 通道 并行 分辨 光刻 系统 | ||
【主权项】：
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