[发明专利]一种基于光纤阵列的多通道并行式超分辨直写式光刻系统在审
| 申请号： | 202110428517.0 | 申请日： | 2021-04-21 |
| 公开（公告）号： | CN113189848A | 公开（公告）日： | 2021-07-30 |
| 发明（设计）人： | 匡翠方;罗昊;李海峰;刘旭;魏震;温积森;樊吴申 | 申请（专利权）人： | 之江实验室;浙江大学 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 杭州求是专利事务所有限公司 33200 | 代理人： | 邱启旺 |
| 地址： | 310023 浙江省杭州市余*** | 国省代码： | 浙江;33 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种基于光纤阵列的多通道并行式超分辨直写式光刻系统，通过激发光的双光子效应引发负性光刻胶的光聚合，以及引入抑制光束阻止激发光焦斑边缘位置的光刻胶进行光聚合，使直写式光刻的最小特征尺寸突破光学衍射极限限制；并通过光纤阵列和普通空间光学器件实现多通道并行直写，极大地提升直写式光刻系统的运行效率。本发明使用普通市售的光纤及空间光学器件构建系统，可行性高、实现成本低。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基于 光纤 阵列 通道 并行 分辨 直写式 光刻 系统 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于之江实验室;浙江大学，未经之江实验室;浙江大学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202110428517.0/，转载请声明来源钻瓜专利网。
