[发明专利]一种用于去除光学元件表面亚表层损伤的抛光方法在审
| 申请号： | 202110429742.6 | 申请日： | 2021-04-21 |
| 公开（公告）号： | CN113070742A | 公开（公告）日： | 2021-07-06 |
| 发明（设计）人： | 裴宁;王大森;聂凤明;张旭;李晓静;夏超翔;郭海林;刘敏;周静;李维杰 | 申请（专利权）人： | 中国兵器科学研究院宁波分院 |
| 主分类号： | B24B1/00 | 分类号： | B24B1/00;B24B13/00 |
| 代理公司： | 宁波诚源专利事务所有限公司 33102 | 代理人： | 袁忠卫;张艳鹏 |
| 地址： | 315103 浙*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种用于去除光学元件表面亚表层损伤的抛光方法，其特征在于，包括如下步骤：步骤一：对光学元件进行古典抛光；步骤二：对经过古典抛光的光学元件进行真空等离子体抛光。本发明采用古典抛光和等离子抛光的复合抛光技术，能显著消除光学元件的表面与亚表面损伤，该复合抛光技术能够有效克服古典抛光造成光学元件表面和亚表面损伤以及等离子抛光的抛光效率低的问题，即将古典抛光与等离子体抛光结合，可以兼顾抛光效率和对损伤层的去除。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 去除 光学 元件 表面 表层 损伤 抛光 方法 | ||
【主权项】：
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