[发明专利]辐射发射器及其制备方法在审
| 申请号： | 202110432333.1 | 申请日： | 2021-04-21 |
| 公开（公告）号： | CN113140962A | 公开（公告）日： | 2021-07-20 |
| 发明（设计）人： | 冈特·拉里斯;田思聪;迪特尔·宾贝格 | 申请（专利权）人： | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 |
| 主分类号： | H01S5/183 | 分类号： | H01S5/183 |
| 代理公司： | 长春中科长光知识产权代理事务所(普通合伙) 22218 | 代理人： | 高一明;郭婷 |
| 地址： | 130033 吉林省长春*** | 国省代码： | 吉林;22 |
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| 摘要： | 本发明提供一种制造辐射发射器的方法，包括以下步骤：制造堆叠层，其包括第一反射器、至少一个中间层、有源区和第二反射器；局部氧化至少一个中间层，从而在至少一个中间层中形成至少一个未氧化的孔径；以及局部去除堆叠层，从而形成台面，其中台面包括第一反射器、至少一个未氧化的孔径、有源区和第二反射器；在局部去除堆叠层并形成台面之前或之后，执行以下步骤：在中间层内部形成至少未氧化的第一孔径和至少未氧化的第二孔径；在堆叠层内部蚀刻沟槽，沟槽限定了台面的至少第一部分和台面的至少第二部分，其中沟槽切断中间层并将孔径分开，使得第一孔径位于台面的第一部分中，第二孔径位于台面的第二部分中；以及为每个部分制造单独的电接触。 | ||
| 搜索关键词： | 辐射 发射器 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
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