[发明专利]具有光栅结构的红外半导体芯片及其制备方法有效

专利信息
申请号: 202110435424.0 申请日: 2021-04-22
公开(公告)号: CN113380908B 公开(公告)日: 2022-06-17
发明(设计)人: 肖和平 申请(专利权)人: 华灿光电(苏州)有限公司
主分类号: H01L31/0232 分类号: H01L31/0232;H01L31/105;H01L31/18
代理公司: 北京三高永信知识产权代理有限责任公司 11138 代理人: 吕耀萍
地址: 215600 江苏省苏*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 本公开提供了具有光栅结构的红外半导体芯片及其制备方法,属于半导体制作领域。红外的PIN半导体芯片中的外延片中,p‑GaAs欧姆接触层与金属光栅结构可以全面覆盖p型共振复合层的表面,与增加的n型布拉格反射层配合,将大部分本征材料吸收复合层吸收到的光线限制在外延片内部并在p型共振复合层形成共振,增加光线的吸收与反应速率,即增加响应速度。金属光栅结构上具有的连通至p型共振复合层表面的、阵列的多个光栅孔,可以一定程度上改变光栅孔,来控制PIN半导体芯片可进行共振与探测的光线的波长,提高PIN半导体芯片对不同波长的光线的适应性。
搜索关键词: 具有 光栅 结构 红外 半导体 芯片 及其 制备 方法
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于华灿光电(苏州)有限公司,未经华灿光电(苏州)有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202110435424.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top