[发明专利]一种镀液流速加强型TSV金属柱的电镀方法有效

专利信息
申请号: 202110437208.X 申请日: 2021-04-22
公开(公告)号: CN113174620B 公开(公告)日: 2022-05-03
发明(设计)人: 冯光建;黄雷;高群;郭西;顾毛毛 申请(专利权)人: 浙江集迈科微电子有限公司
主分类号: C25D7/12 分类号: C25D7/12;C25D5/08;C23C14/14;C25D17/08;C25D5/48;C25D5/02;H01L21/768
代理公司: 无锡市兴为专利代理事务所(特殊普通合伙) 32517 代理人: 屠志力
地址: 313100 浙江省湖州市长兴县经济技术开发*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明涉及半导体技术领域,具体涉及一种镀液流速加强型TSV金属柱的电镀方法。本发明的电镀方法包括以下步骤:在基材上形成通孔,在基材的表面制作钝化层,并在钝化层上形成种子层;制作辅助载具,并在所述辅助载具表面对应制作焊接点,然后在载具表面制作微流道槽;把所述辅助载具与基材结合成为复合片,把复合片放置在电镀机中电镀,电镀液通过喷射方式向基材表面喷射液体;电镀完成后基材的两面及通孔内均形成金属层,对去除辅助载后的转接板进行双面抛光,得到带有TSV金属柱的转接板。本发明用通孔工艺代替原来的盲孔工艺,在基材的表面形成种子层以实现深TSV通孔的导电,通过背面吸药液的方式,加快TSV孔内的药液更换,实现深孔的侧壁电镀。
搜索关键词: 一种 流速 加强型 tsv 金属 电镀 方法
【主权项】:
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