[发明专利]一种用于硫锂电池的插层材料及其制备方法有效
申请号: | 202110444942.9 | 申请日: | 2021-04-24 |
公开(公告)号: | CN113224462B | 公开(公告)日: | 2023-06-16 |
发明(设计)人: | 赵文俞;贺丹琪;翟鹏程;张清杰 | 申请(专利权)人: | 武汉理工大学 |
主分类号: | H01M50/431 | 分类号: | H01M50/431;H01M50/417;H01M50/451;H01M50/403;H01M10/052;C23C14/35;C23C14/06;C23C14/20 |
代理公司: | 武汉智嘉联合知识产权代理事务所(普通合伙) 42231 | 代理人: | 陈建军 |
地址: | 430070 湖*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | 本发明公开一种用于硫锂电池的插层材料及其制备方法,属于锂离子电池技术领域。该用于硫锂电池的插层材料,通过磁控溅射方法将靶材溅射在隔膜上制得,所述靶材为热电材料。本发明还包括上述插层材料的制备方法,包括以下步骤:将热电材料靶材置于磁控溅射仪,同时将隔膜置于磁控溅射仪基板,将溅射气压和溅射电压分别调节至4‑8Pa和200‑400V时,磁控溅射仪基板启动旋转模式,溅射10‑30min得到所述插层材料。该插层材料有效阻挡多硫化锂向负极扩散,进而提高锂硫电池的循环稳定性,循环100次,电池的放电比容量高达850mAh/g。 | ||
搜索关键词: | 一种 用于 锂电池 材料 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
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