[发明专利]一种改善CIS产品负信号的方法有效

专利信息
申请号: 202110449080.9 申请日: 2021-04-25
公开(公告)号: CN113224097B 公开(公告)日: 2023-03-24
发明(设计)人: 袁明;王柯;程刘锁;钱江勇;张继亮 申请(专利权)人: 华虹半导体(无锡)有限公司
主分类号: H01L27/146 分类号: H01L27/146;H01L21/265
代理公司: 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 代理人: 戴广志
地址: 214028 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明提供一种改善CIS产品负信号的方法,提供硅基底;在硅基底上形成厚栅氧区域、P型阱以及N型阱;在厚栅氧区域、P型阱以及N型阱上形成栅氧层;在栅氧层上形成多晶硅层;对多晶硅层进行F离子注入。本发明中进行F离子注入,可以使栅氧层有效电性厚度增加,随转移管的逐步打开,输出信号呈上升趋势,负信号有明显改善,并且CIS器件的窗口进行了优化。
搜索关键词: 一种 改善 cis 产品 信号 方法
【主权项】:
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