[发明专利]一种纳米团簇的束流密度控制装置及其使用方法有效
| 申请号： | 202110449959.3 | 申请日： | 2021-04-25 |
| 公开（公告）号： | CN113278930B | 公开（公告）日： | 2023-04-18 |
| 发明（设计）人： | 刘风光;吴鹏;赵巍胜 | 申请（专利权）人： | 北京航空航天大学合肥创新研究院（北京航空航天大学合肥研究生院） |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C23C14/54;C23C14/56;B82Y30/00;B82Y40/00 |
| 代理公司： | 合肥律众知识产权代理有限公司 34147 | 代理人： | 夏舜 |
| 地址： | 230000 安徽*** | 国省代码： | 安徽;34 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种纳米团簇的束流密度控制装置及其使用方法，包括冷凝腔、差分真空腔和沉积腔，所述冷凝腔内设置有气管、溅射枪和液氮喷管，所述冷凝腔内设置有罗茨泵，所述差分真空腔和沉积腔内均设置有分子泵，所述冷凝腔和差分真空腔之间设置有气动力喷头。本发明通过设置束流密度控制装置，即束流分流通道和用于调节束流分流通道的控制装置，便于对团簇束流的沉积密度进行调节，使得部分团簇束流分离或走额外的通道进行沉积，从而增大沉积间隙，达到控制密度的目的。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 纳米 密度 控制 装置 及其 使用方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京航空航天大学合肥创新研究院（北京航空航天大学合肥研究生院），未经北京航空航天大学合肥创新研究院（北京航空航天大学合肥研究生院）许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202110449959.3/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种模块化拟态邮箱系统
- 下一篇：一种基于低成本柔性印刷标签的通信协议
- 同类专利
- 专利分类
