[发明专利]一种银复合膜层刻蚀剂及其制备方法在审
| 申请号： | 202110452245.8 | 申请日： | 2021-04-26 |
| 公开（公告）号： | CN113150786A | 公开（公告）日： | 2021-07-23 |
| 发明（设计）人： | 鲁晨泓;尹淞;刘江华;张建 | 申请（专利权）人： | 芯越微电子材料（嘉兴）有限公司 |
| 主分类号： | C09K13/06 | 分类号： | C09K13/06;C23F1/30 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 314200 浙江省嘉兴*** | 国省代码： | 浙江;33 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 本发明公开了一种银复合膜层刻蚀剂及其制备方法，包括磷酸、硝酸、醋酸以及缓冲剂；以重量百分比为计，磷酸为30‑60％、硝酸为2‑20％、醋酸为12‑40％、缓冲剂为0.01‑10％和去离子水5‑50％。本发明可以将金属银及其氧化物转化为可溶于水的盐，反应稳定性性高、对同一衬底上的金属银及其氧化的刻蚀速率基本一致、刻蚀速率可控性高、对小颗粒银残留问题得到根本改善、反应稳定性性高，避免沉淀附着影响刻蚀效率及表面平整度；在使用过程中无特殊限制，可采用侵泡式、喷淋式或侵泡喷淋组合式；可实现复合膜层一步刻蚀、刻蚀稳定性高、改善银盐附着现象明显。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 复合 刻蚀 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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