[发明专利]一种去除光刻胶树脂中的金属杂质的方法有效
| 申请号： | 202110452965.4 | 申请日： | 2021-04-26 |
| 公开（公告）号： | CN113198549B | 公开（公告）日： | 2023-01-31 |
| 发明（设计）人： | 杨鑫楷;马潇;周浩杰;杨平原;陈情丽;顾大公;毛智彪;许从应 | 申请（专利权）人： | 宁波南大光电材料有限公司 |
| 主分类号： | B01J47/10 | 分类号： | B01J47/10;B01J19/14 |
| 代理公司： | 深圳盛德大业知识产权代理事务所(普通合伙) 44333 | 代理人： | 左光明 |
| 地址： | 315800 浙江省*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明实施例公开了一种去除光刻胶树脂中的金属杂质的方法，该方法包括：S1、对预置的离子交换树脂进行活化处理；S2、将活化后的离子交换树脂与光刻胶树脂反应液在反应瓶中进行混合搅拌，搅拌结束后对混合液中的离子交换树脂进行滤除；S3、对滤除离子交换树脂后的树脂溶液进行沉淀处理、固液分离以及烘干处理；S4、再次重复步骤S3，得到去除金属杂质后的光刻胶树脂。该方法通过采用活化后的离子交换树脂去除光刻胶树脂反应液中的金属杂质，然后将树脂溶液进行沉淀处理、固液分离以及烘干，烘干完成后再次进行沉淀处理、固液分离以及烘干，便可得到符合光刻胶工艺的光刻胶树脂，极大的降低了光刻工艺的成本，同时拓宽了光刻工艺中所需原料的来源。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 去除 光刻 树脂 中的 金属 杂质 方法 | ||
【主权项】：
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