[发明专利]一种原子层沉积系统及沉积方法

摘要

本发明涉及一种原子层沉积系统及沉积方法，其中，原子层沉积系统包括：缓冲腔室、预装载腔、反应腔室。其中，缓冲腔室与前道工艺设备的真空平衡腔体相连接，在所述缓冲腔室内设有装载臂，实现待沉积基板向后续工艺设备的传递；预装载腔与所述缓冲腔室一字型连接，在所述预装载腔内设有旋转夹具，以承接并固定由所述装载臂递送的待沉积基板，所述旋转夹具上内设有动力机构，实现将载有待沉积基板的旋转夹具向后续工艺设备的传递；反应腔室位于所述预装载腔的下方，在所述反应腔室内设有真空反应器。有益效果是：通过批量性的进行原子层沉积工艺，极大的提高了原子层沉积系统的生产效率，适合批量性工艺，对基底进行膜层沉积保护。