[发明专利]一种基于硬质合金表面镀ta-C膜的离子清洗工艺有效

专利信息
申请号: 202110455477.9 申请日: 2021-04-26
公开(公告)号: CN113151797B 公开(公告)日: 2023-03-28
发明(设计)人: 冯利民;李建中;张涛;吴静怡;于凯 申请(专利权)人: 东北大学;上海新弧源涂层技术有限公司
主分类号: C23C14/35 分类号: C23C14/35;C23C14/02;C23C14/06
代理公司: 大连东方专利代理有限责任公司 21212 代理人: 周莹;李馨
地址: 110819 辽宁*** 国省代码: 辽宁;21
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摘要: 发明公开了一种真空镀膜前离子清洗工艺,包括以下步骤:1、超声波清洗等离子基体表面杂质,装炉;2、在真空涂层设备内进行弧光增强氩离子轰击以清除基体表面杂质,采用电弧离子镀作为离化源,提供的电子流密度可达10+19/m3,同时其对面的柱状镀膜阴极在此过程转换为阳极,将高密度的电子流引向通过被清洗工件区域,将Ar原子离化,Ar+流作为对工件的离子清洗源使用;3、进入真空镀膜工艺步骤。本申请所述工艺既可以提供高密度的离子流清洗工件,保证工件各个角度得到充分清洗;又可以在使用较低偏压的情况下,防止过高金属离子流对精密工件的过度轰击作用,损坏工件。
搜索关键词: 一种 基于 硬质合金 表面 ta 离子 清洗 工艺
【主权项】:
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