[发明专利]增材制造系统有效
| 申请号： | 202110455910.9 | 申请日： | 2021-04-26 |
| 公开（公告）号： | CN113515020B | 公开（公告）日： | 2022-11-11 |
| 发明（设计）人： | 翁占坤;王深智;郭川川;李韬;刘通;田立国;王璐;王作斌;宋正勋;许红梅 | 申请（专利权）人： | 长春理工大学 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京高文律师事务所 11359 | 代理人： | 曹玲柱;王冬 |
| 地址： | 130012 *** | 国省代码： | 吉林;22 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供了一种微纳光场调控与面投影立体光刻协同作用的增材制造系统。本发明将面投影立体光刻技术的大面积高速任意图形增材制造优势与激光干涉光场调控易实现纳米尺度结构的特点相结合，提出一种新型的微纳光场调控辅助面投影立体光刻的增材制造技术。该增材制造技术既避免了面投影立体光刻技术在增材制造微观体素精度方面的不足，又弥补了激光干涉微纳光场调控技术在任意图形增材制造方面的缺点，将突破宏观器件尺寸与微观体素精度互相矛盾的瓶颈。 | ||
| 搜索关键词： | 制造 系统 | ||
【主权项】：
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