[发明专利]一种接近式曝光光源及曝光方法在审
| 申请号： | 202110458931.6 | 申请日： | 2021-04-27 |
| 公开（公告）号： | CN113156775A | 公开（公告）日： | 2021-07-23 |
| 发明（设计）人： | 张顺平;李文豪 | 申请（专利权）人： | 华中科技大学 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 华中科技大学专利中心 42201 | 代理人： | 孔娜;尚威 |
| 地址： | 430074 湖北*** | 国省代码： | 湖北;42 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 本发明属于半导体制程技术领域，并具体公开了一种接近式曝光光源及曝光方法，其包括紫外线激光器和光学透镜，其中：紫外线激光器安装在光学透镜的光心连线上，位于光学透镜焦深范围内；紫外线激光器和光学透镜间安装有狭缝。曝光时：S1接近式曝光光源与待曝光样品相对移动，光源发出的紫外线光区扫描通过整个待曝光样品表面；S2判断是否曝光结束，若未结束，使接近式曝光光源与样品均反向，再次相对移动，使紫外线光区扫描通过整个样品表面；若结束，完成曝光；S3重复S2，直至完成样品曝光。本发明利用紫外线激光器作为光源，配合狭缝和光学透镜得到高度平行线光源，简化了曝光光源结构，且体积小、集成性好，可实现面区域扫描式曝光。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 接近 曝光 光源 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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