[发明专利]半导体器件及其制造方法在审
| 申请号： | 202110459956.8 | 申请日： | 2021-04-27 |
| 公开（公告）号： | CN114649348A | 公开（公告）日： | 2022-06-21 |
| 发明（设计）人： | 林佑明;杨柏峰;杨世海;贾汉中;徐志安 | 申请（专利权）人： | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号： | H01L27/11587 | 分类号： | H01L27/11587;H01L27/1159;H01L27/11597 |
| 代理公司： | 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 11258 | 代理人： | 张敏 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | 本公开涉及半导体器件及其制造方法。一种器件，包括：半导体衬底；半导体衬底之上的第一字线，第一字线为第一晶体管提供第一栅极电极；以及第一字线之上的第二字线。第二字线通过第一电介质材料与第一字线绝缘，并且第二字线为第二晶体管提供第二栅极电极，该第二晶体管在第一晶体管之上。该器件还包括与第一字线和第二字线相交的源极线；与第一字线和第二字线相交的位线；在第一字线和源极线之间的存储器膜；以及在存储器膜和源极线之间的第一半导体材料。 | ||
| 搜索关键词： | 半导体器件 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的；包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的，或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的；包括有热磁组件的
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