[发明专利]一种化学腐蚀法调节磁共振射频线圈频率的方法有效

专利信息
申请号: 202110463793.0 申请日: 2021-04-27
公开(公告)号: CN113203967B 公开(公告)日: 2023-07-18
发明(设计)人: 张松涛;邵志红;张健军;漆彦辉;邓华琼 申请(专利权)人: 上海辰光医疗科技股份有限公司
主分类号: G01R33/34 分类号: G01R33/34
代理公司: 上海兆丰知识产权代理事务所(有限合伙) 31241 代理人: 卢艳民
地址: 201707 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明公开了一种化学腐蚀法调节磁共振射频线圈频率的方法,通过调节相邻的顶层导体和底层导体之间的交叠面积,调节柔性平面电容的容值,进而调节磁共振射频线圈的谐振频率,可以精确地调节磁共振射频线圈的谐振频率,而且不破坏柔性印刷电路板的机械结构,这种方法调节出来的电容,其耐压强度不受影响,完全可以在失谐电路和共模抑制巴伦等高耐压电路中使用。
搜索关键词: 一种 化学 腐蚀 调节 磁共振 射频 线圈 频率 方法
【主权项】:
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