[发明专利]光学检测系统及光学检测方法在审
| 申请号： | 202110464126.4 | 申请日： | 2021-04-26 |
| 公开（公告）号： | CN113176076A | 公开（公告）日： | 2021-07-27 |
| 发明（设计）人： | 柯俊宇;吴祖修 | 申请（专利权）人： | 日月光半导体制造股份有限公司 |
| 主分类号： | G01M11/02 | 分类号： | G01M11/02;G01B11/24;G01N21/958 |
| 代理公司： | 北京植德律师事务所 11780 | 代理人： | 唐华东 |
| 地址： | 中国台湾高雄*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | 本公开提供了光学检测系统及光学检测方法。通过设计光学检测系统中：第一相机设置于待测光学器件的第一侧，第一光源、分光镜、第二光源和第二相机分别设置于待测光学器件的第二侧，分光镜设置于第一光源和待测光学器件之间，第一光源发射的光线穿透分光镜和待测光学器件后由第一相机接收并形成透射图像后发送至计算设备，第二光源设置于分光镜和待测光学器件之间，第二光源朝向待测光学器件发射的光线由待测光学器件反射后经由分光镜而被第二相机接收并形成反射图像后发送至计算设备；计算设备用于基于透射图像和反射图像生成透射检测结果和表面检测结果。本公开方案可以扩大光学器件检测的检测范围以及提高检测速度。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 检测 系统 方法 | ||
【主权项】：
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