[发明专利]低摩擦磨损膜和其制造方法在审
| 申请号： | 202110465540.7 | 申请日： | 2021-04-28 |
| 公开（公告）号： | CN113584480A | 公开（公告）日： | 2021-11-02 |
| 发明（设计）人： | 金成姬;铃木奉努;梶野正树;北村和也;大森直之 | 申请（专利权）人： | 株式会社爱信;株式会社东研热科技 |
| 主分类号： | C23C28/00 | 分类号： | C23C28/00;C23C14/06;C23C14/16;C23C14/34;C23C14/35;C23C16/26;C23C16/50 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 金世煜;李书慧 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 低摩擦磨损膜(10)包括：铬层(11)，形成于金属基材(1)表面；碳化钨倾斜层(14)，形成在所述铬层(11)的表面上；以及作为顶层的类金刚石碳层(15)，形成在所述碳化钨倾斜层(14)的表面上。所述碳化钨倾斜层(14)包含铬－碳化钨倾斜层(12)和碳化钨均匀层(13)。上述铬－碳化钨倾斜层(14)在上述铬－碳化钨倾斜层(12)与上述碳化钨均匀层(13)的边界不形成存在钨单质的钨浓缩层。 | ||
| 搜索关键词： | 摩擦 磨损 制造 方法 | ||
【主权项】：
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