[发明专利]一种ArF光刻胶成膜树脂及其制备方法和光刻胶组合物

摘要

本发明公开了一种ArF光刻胶成膜树脂及其制备方法和光刻胶组合物，包含如式I所示无规共聚物结构：其中n、m、x、y和z为单体的摩尔占比，0＜n≤0.3，0＜m≤0.5，0＜x≤0.2，0＜y≤0.8，0＜z≤0.1，n+m+x+y+z＝1；R1、R2、R3、R4和R5为H、CH3或CH2CH3。一种光刻胶组合物，包括上述成膜树脂5～30％，其余为有机溶剂。本发明将光致产酸剂和酸扩散抑制剂同时引入到成膜树脂中，能很好的控制光致产酸剂和酸扩散抑制剂均匀地分布，从而提高光刻胶的灵敏度(≤42mJ/cm2)、分辨率(≤90nm)。此外，由于各单体的引入还可以改善光刻胶的成膜能力和粘附性。