[发明专利]基于单一N掺杂调控4H-SiC纳米结构同时收集机械能和光能用于裂解水的方法有效

专利信息
申请号: 202110473455.5 申请日: 2021-04-29
公开(公告)号: CN113308743B 公开(公告)日: 2022-09-16
发明(设计)人: 侯新梅;周林林;杨涛;王恩会;方志;郑亚鹏;陈亚丰;杨树峰 申请(专利权)人: 北京科技大学
主分类号: C30B31/08 分类号: C30B31/08;C30B33/08;C30B29/36;C01B3/04
代理公司: 北京中强智尚知识产权代理有限公司 11448 代理人: 黄耀威
地址: 100083*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明提供了一种基于单一N掺杂调控4H‑SiC纳米结构同时收集机械能和光能用于裂解水的方法,其步骤包括:以N2O5为氮源,在4H‑SiC单晶片上扩散掺杂制得N掺杂浓度为1‑10mol%的N掺杂的4H‑SiC;通过化学刻蚀在N掺杂的4H‑SiC上形成纳米孔阵列制得具有纳米结构的N掺杂4H‑SiC;以具有纳米结构的N掺杂4H‑SiC作光电阳极,铂片作阴极,同时对光电阳极进行光照与施力,利用压电效应和光电催化效应耦合增强原理同时收集机械能和光能裂解水。本发明提供的一种基于单一N掺杂调控4H‑SiC纳米结构同时收集机械能和光能用于裂解水的方法,操作过程简单、设备要求低且分解水能力强。
搜索关键词: 基于 单一 掺杂 调控 sic 纳米 结构 同时 收集 机械能 光能 用于 裂解 方法
【主权项】:
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