[发明专利]一种含铝靶材的自动抛光工艺方法在审
| 申请号： | 202110473542.0 | 申请日： | 2021-04-29 |
| 公开（公告）号： | CN113084674A | 公开（公告）日： | 2021-07-09 |
| 发明（设计）人： | 姚力军;窦兴贤;王学泽;王青松;杨欢 | 申请（专利权）人： | 合肥江丰电子材料有限公司 |
| 主分类号： | B24B27/00 | 分类号： | B24B27/00;B24B21/00;B24B21/18;B24B49/00;B24B41/00 |
| 代理公司： | 北京远智汇知识产权代理有限公司 11659 | 代理人： | 王岩 |
| 地址： | 230012 安徽*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种含铝靶材的自动抛光工艺方法，所述工艺方法包括以下步骤：采用自动抛光设备对含铝靶材的溅射面进行自动抛光，所述自动抛光过程包括四道抛光工序，抛光所用砂带的粒度依次递减，得到抛光后的含铝靶材。本发明所述工艺方法根据靶材材质的选择，采用不同型号的砂带对靶材溅射面进行自动抛光，所用砂带的粒度依次减小，并通过抛光工艺参数的控制，以保证溅射面抛光后的粗糙度的可控性，使含铝靶材溅射面的粗糙度可达到0.2～0.7μm，满足后续的使用要求；所述抛光工艺自动化进行，稳定性好，减少了人工操作，提高了生产效率，也能够提高靶材生产的合格率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 含铝靶材 自动 抛光 工艺 方法 | ||
【主权项】：
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