[发明专利]彩色滤光层制作方法、相关基板及其制作方法

摘要

本申请提供了一种彩色滤光层制作方法、彩膜基板制作方法、阵列基板制作方法、彩膜基板及阵列基板，其中彩色滤光层制作方法包括：步骤S111、将共用掩模板向第一色阻块的远离第二色阻块的一侧移动一个像素间距的距离，进行曝光工艺，并将共用掩模板上的图案转印到第四光刻胶上。本申请采用将共用掩模板向第一色阻块的远离第二色阻块的一侧移动一个像素间距的距离的步骤替代了将共用掩模板向第一色阻块的靠近第二色阻块的一侧移动三个像素间距的距离的步骤，防止了共用掩模板的边缘与光刻机的曝光区域的边缘之间的间距小于200微米，从而解决了现有的采用共用掩模板向同一侧依序偏移来制作彩色滤光层的方法容易导致标记误抓、曝光错误的问题。