[发明专利]一种增强大型效应物内场强的基于介质基底结构的辐照腔有效
| 申请号： | 202110482220.2 | 申请日： | 2021-04-30 |
| 公开（公告）号： | CN113181556B | 公开（公告）日： | 2022-09-23 |
| 发明（设计）人： | 朱湘琴;杜太焦;陈昌华;宋志敏;蔡利兵 | 申请（专利权）人： | 西北核技术研究所 |
| 主分类号： | G01N1/44 | 分类号： | G01N1/44 |
| 代理公司： | 西安智邦专利商标代理有限公司 61211 | 代理人： | 汪海艳 |
| 地址： | 710024 陕*** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种辐照腔，具体涉及一种增强大型效应物内场强的基于介质基底结构的辐照腔。克服采用现有辐照腔改进手段可行性较低的问题。本发明在辐照腔中放置了具有特定相对介电常数的绝缘介质基底，并在绝缘介质基底上刻上特定形状和尺寸的凹槽、然后再填上特定形状及尺寸的金属材质，实现了大型非金属效应物内部的场强增强，从而完成了辐照腔结构的改进。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 增强 大型 效应 场强 基于 介质 基底 结构 辐照 | ||
【主权项】：
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