[发明专利]一种半导体抛光膜用涂膜系统及涂膜方法有效
| 申请号： | 202110482491.8 | 申请日： | 2021-04-30 |
| 公开（公告）号： | CN113210199B | 公开（公告）日： | 2023-08-22 |
| 发明（设计）人： | 胡光球;陆静;王凯平 | 申请（专利权）人： | 苏州赛尔特新材料有限公司 |
| 主分类号： | B05C5/02 | 分类号： | B05C5/02;B05C11/10;B05C11/02 |
| 代理公司： | 苏州创元专利商标事务所有限公司 32103 | 代理人： | 孙周强 |
| 地址： | 215100 江苏省苏州市苏州工*** | 国省代码： | 江苏;32 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种半导体抛光膜用涂膜系统，包括上料搬运装置、三轴打胶装置、刮胶卸料装置，集上料、打胶、抹胶、刮胶、卸料、存料为一体。利用上料搬运装置将基材放置于刮胶盘上；胶桶内存胶；利用三轴打胶装置将胶筒内的胶依次经过胶管、胶嘴后打在基材表面并利用胶刷抹胶；利用刮胶装置的刮胶板将基材表面的胶刮平，在基材表面制备聚合物膜层。本发明得到的胶层厚度均匀，且显微镜测试可看出，产品刮胶平整，可以更均匀的将胶在无纺布表面刮平，尤其是胶层厚度均匀、无纺布槽内充满胶。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 半导体 抛光 膜用涂膜 系统 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于苏州赛尔特新材料有限公司，未经苏州赛尔特新材料有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202110482491.8/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：半导体器件及其制造方法
- 下一篇：音频数据消音方法、装置、电子设备和存储介质
