[发明专利]一种用于PVT法制备晶体的反应器组件及其使用方法和应用有效
| 申请号： | 202110482795.4 | 申请日： | 2021-04-30 |
| 公开（公告）号： | CN113215654B | 公开（公告）日： | 2022-04-12 |
| 发明（设计）人： | 刘鹏飞;刘星;刘家朋;李加林 | 申请（专利权）人： | 山东天岳先进科技股份有限公司 |
| 主分类号： | C30B23/00 | 分类号： | C30B23/00;C30B29/36 |
| 代理公司： | 北京君慧知识产权代理事务所(普通合伙) 11716 | 代理人： | 冯妙娜 |
| 地址： | 250118 山*** | 国省代码： | 山东;37 |
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| 摘要： | 本申请公开了一种用于PVT法制备晶体的反应器组件，属于半导体材料制备领域。该反应器组件包括：反应腔，所述反应腔包括原料腔和废料腔，所述废料腔的底端低于所述原料腔的底端；加热机构，所述加热机构套设在所述原料腔外侧，用于加热所述原料腔；长晶腔，所述长晶腔与所述原料腔通过气相传输通道连通，所述原料腔内的原料升华产生的原料气通过气相传输通道传输至所述长晶腔内的籽晶处长晶；平推流机构，所述平推流机构将所述原料腔内长晶过程中产生的废料移动至所述废料腔。本反应器组件能够及时将废料移动至废料腔，提高原料的升华速率和利用率，并且减少晶体的缺陷。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 pvt 法制 晶体 反应器 组件 及其 使用方法 应用 | ||
【主权项】：
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