[发明专利]一种液滴横向饼状弹跳超疏水斜柱阵列的加工方法有效

专利信息
申请号: 202110489453.5 申请日: 2021-05-06
公开(公告)号: CN113199148B 公开(公告)日: 2022-02-15
发明(设计)人: 宋金龙;吴松;潘维浩;黄柳 申请(专利权)人: 大连理工大学
主分类号: B23K26/352 分类号: B23K26/352;B23K26/60
代理公司: 大连理工大学专利中心 21200 代理人: 李晓亮;潘迅
地址: 116024 辽*** 国省代码: 辽宁;21
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摘要: 发明提供一种液滴横向饼状弹跳超疏水斜柱阵列的加工方法,属于微细特种加工技术领域。所述加工方法为:设置纳米激光加工参数,在金属基底上预先加工出斜柱阵列顶部微/纳米结构;将加工后的工件固定在X轴可旋转的电控平台上,设置电控平台的X轴的旋转角度,采用逐行进给加工的方法在金属基底上制造出斜柱阵列,将获得的斜柱阵列采用氟硅烷或硬脂酸溶液进行低表面能修饰,即得超疏水斜柱阵列。本发明方法具有简单易操作、成本低、制造出的超疏水斜柱阵列的结构尺寸及倾斜角度可控,加工范围广且自身具备稳定的超疏水性能等优点,本发明制备的超疏水斜柱阵列可使液‑固接触时间减小84%,可有效地实现液滴横向饼状弹跳防止结冰现象的发生。
搜索关键词: 一种 横向 弹跳 疏水 阵列 加工 方法
【主权项】:
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