[发明专利]辅助图形的添加方法、装置及测试版图

摘要

本发明提供了一种辅助图形的添加方法、装置及测试版图，应用于半导体技术领域。在本发明提供的辅助图形的添加方法中，首先通过确定相邻两个错位排布的的主图形的外围区域形成的拐角区域，然后，再在拐角区域中识别出需要添加本发明提供的L型辅助图形的待处理拐角区域，并在该待处理的拐角区域中添加L型辅助图形，从而避免了现有技术中由于需要对该拐角区域中的每个主图形均添加辅助图形，而导致添加的多个辅助图形存在冲突，进而导致主图工艺窗口低的问题。因此，本发明提供的辅助图形的添加方法提高了版图的光刻工艺窗口，提升了OPC修正过程中的准确度，并有效提升了产品良率。