[发明专利]一种用于大尺寸CVD腔体背板表面处理的等离子抛光设备及方法在审
| 申请号： | 202110494225.7 | 申请日： | 2021-05-07 |
| 公开（公告）号： | CN113231944A | 公开（公告）日： | 2021-08-10 |
| 发明（设计）人： | 刘洋;向飞 | 申请（专利权）人： | 安徽应友光电科技有限公司 |
| 主分类号： | B24B29/02 | 分类号： | B24B29/02;B24B1/00;B24B57/02;B08B3/02;B08B3/10;C23C16/44 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 239500 安*** | 国省代码： | 安徽;34 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 本发明公开了一种用于大尺寸CVD腔体背板表面处理的等离子抛光设备及方法，包括平台、抛光槽、清洗槽及控制柜，所述平台顶面固接两个导轨，两个导轨上方放置有移动平台，所述移动平台底面转动连接四个导轮。本发明挂具组件内设置了两个上卡勾及两个下卡勾的间距，便于应对不同大小的工件，无需更换挂具，实用价值高，本发明中抛光槽内设置了循环系统，通过循环泵使得其内的抛光液处于流动状态，进而使得抛光液整体上下浓度均匀，不会产生浓度差，避免了因为抛光液浓度差异导致抛光表面光泽度不均匀的现象，本发明中清洗槽内采用喷头喷洗，喷洗后的水可以对工件进行浸洗，浸洗过程中，水在搅拌叶的作用下持续流动，提高了清洗质量。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 尺寸 cvd 背板 表面 处理 等离子 抛光 设备 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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